进口二手蚀刻机清关难点|注意事项

进口二手蚀刻机清关难点|注意事项

专业代理进口上海提供8寸晶圆封装生产线进口报关服务、机械设备、半导体设备、机加工设备设备。提供二手晶圆设备LCD 液晶屏制造生产线半导体封装设备集成电路生产线曝光机光刻机二手 SMT 贴片机自动化生产线进口代理清关

个人专注领域及提供的服务：

专注于一般贸易代理光刻机、解理机、刻蚀机、清洗机、测试机、划片机、FECVD等半导体设备国外商检/国内港口报关报检服务，为企业提供更加便捷的旧设备进口通关渠道，我司相关设备进口案例丰富，对于设备的成套、新机、价格、编码、审单环节有良好的把握和通关经验。有需要咨询或者了解相关清关事宜的朋友欢迎电话咨询或者微信了解。感谢大家的支持。设备仪器进口清关咨询：（微信同号）

┌─────────────专业进口二手机械设备─────────────┐

万享供应链管理（中国）有限公司

Vanhang Supply Chain Management (Shanghai) Co.,Ltd.

联系人：jasonyan   Mob: 13636544883    QQ：919552054   

  ADD：上海市浦东新区张杨路金桥商务广场607-609室

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光刻机（Stepper，Scanner）

设备名称：光刻机。

设备功能：在半导体基材上（硅片）表面匀胶，将掩模版上的图形转移光刻胶上，把器件或电路结构临时“复制”到硅片上。

主要企业（品牌）：

国际：荷兰阿斯麦（ASML）公司、美国泛林半导体公司、日本尼康公司、日本Canon公司、美国ABM公司、德国德国SUSS公司、美国MYCRO公司。

上海光刻机镀膜机进口报关|磁控溅射设备报关商检

提供二手晶圆设备LCD 液晶屏制造生产线半导体封装设备集成电路生产线曝光机光刻机二手 SMT 贴片机自动化生产线进口代理清关
目前半导体设备（ 6 寸， 8 寸各?晶圆封装企业）像 BOE，台积电， 晶?科技，安靠，新科金朋，日月光，海力士等国内各大企业前景?片大好，其中各大企业的半导体生产设备都依赖进口，其中像旧半导体设备的进口占比 20%，包含二手的整条线，以及贸易商进口的??半导体封装测试设备

=====上海，苏州，广州，深圳，东莞，天津，宁波，青岛八大口岸*作业。

设备进口咨询联系人：严先生   （同微信）   Q

万享做为?家专注“半导体集成电路”进口物流报关服务商，在?业内合作
过多家代工封装测试企业，也拥有了非常高的评价

我们主要进?报关的设备种类：
1，?? 8 ?晶圆制造?产线（美国 CCIC 检疫-进?海运-国内报检报关）
2，??光刻机蚀刻机曝光机（空运-国内安排?垫运输-免查验）
3， 显影机，物理化学?相沉积设备（ PECVD），扩散炉
4， DISCOTSL-切割机研磨机(划?机-减薄机)
5，测试机，扫描电镜，半导体膜厚检测仪（颗粒检测仪）
5， DIE BONDER & WIRE BONDER
6， 松下富?三星 SMT ?动化贴?机

万享服务于“进?半导体设备领域”，优势如下：
1， 熟悉各类半导体设备的进?，对各类设备关税以及海关编码，以及
设备的功能原理都有?常熟练的经验
2， 对?本-美国-韩国-新加坡的海外设备，可以完成设备的真空?箱
的打包，以及进?真空?垫?的运输，同时??设备海外的 ccic 机
构，我们于韩国-闽台-?本-新加坡-北美都有?常娴熟的内部联系
和战略合作
3， 国内港?的进?报检报关，特别对于光刻机，测试机等设备使?全
真空包装且设备对温度湿度空?的要求特别?，?法在港?进?海
关查验，再次万享可以申请查验??进?

我司全国12个网点分布地址如下：

华东地区：

上海总部地址：上海市浦东新区张杨路3611号金桥国际广场6座906-908室

苏州分公司地址：苏州昆山开发区伟业路8号现代广场 B座2016-18室

宁波分公司地址：浙江省宁波市江东区彩虹北路48号波特曼大厦1607室

华南地区：

深圳分公司地址：深圳市罗湖区深南东路5002号地王大厦4002室

厦门分公司地址：厦门市思明区厦禾路新景中心C栋1810室

广州分公司地址：广东省广州市海珠区新港东路1088号中洲交易中心1417室

华北地区：

北京分公司地址：北京市朝阳区阜通东大街6号望京方恒国际C座909室

天津分公司地址：天津市和平区解放北路188号信达广场3001-02室

青岛分公司地址：青岛市黄岛开发区长江中路230号国际贸易中心A座905室

大连分公司地址：大连市中山区港兴路6号万达中心1410室

西南地区：

成都分公司地址：四川省成都市领事馆路7号保利中心南塔704室

武汉分公司地址：解放大道686号世贸大厦2901-2902室

知识拓展：

电子束曝光是利用某些高分子聚合物对电子敏感而形成曝光图形的，与光学曝光对应，其特点是将聚焦电子束代替光照以实现抗蚀剂（光刻胶）的曝光（改性）。
在实验室广泛应用的电子束曝光机为矢量扫描高斯型系统，即：电子束斑为高斯线型，工作时采用矢量扫描方式。
电子束曝光*掩膜，可实现低至10nm线宽图形，是目前纳米技术研究中非常重要的纳米图形生成手段。  

主要技术指标                 

请客户自行计算曝光时间，以此为依据预约时间。

曝光时间计算公式：曝光时间=曝光面积*曝光剂量/束流大小（束流大小一般为100PA）

Accelerating voltage： 25/50 kV 

Minimum line width： 10 nm （50 kV/5th） 

Overlay Accuracy： 40 nm  

Field stitching Accuracy: 40 nm  

Exposure range： 直径75 mm 

Scan speed：12 MHz to 250 Hz  

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