从国外买了一条晶圆生产线怎么清关

从国外买了一条晶圆生产线怎么清关 

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万享供应链管理（中国）有限公司

Vanhang Supply Chain Management (Shanghai) Co.,Ltd.

联系人：jasonyan   Mob: 13636544883    QQ：919552054   

  ADD：上海市浦东新区张杨路金桥商务广场607-609室

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案例：

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商品描述：制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD))

1：品名：等离子气象化学沉积仪

组成部分：等离子源，工艺腔体，干泵及气路

2：用途：利用强电场或磁场使所需的气体源分子电离产生等离子体，等离子体中含有很多

活性很高的化学基团这些基团经过经一系列化学和等离子体反应，在样品表面形成固态薄

膜。

3：功能：其主要作用是在硅晶片的表面镀一层SiN薄膜，这层薄膜可以减少太阳光的反射

率，增加光电转换效率。它还具有良好的抗氧化和绝缘性能，同时具有良好的掩蔽金属和水

离子扩散的能力。

4：品牌：Oxford Instrument

5：型号：Plasmapro  PECVD80

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万享专业代理新旧测试机/清洗机/等离子气息设备/半导体设备进口商检报关

设备进口咨询联系人：严先生   （同微信）   021-61062629  

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进口摘要：

万享专业代理新旧半导体设备/OLED设备/PCB制造设备/光伏设备进口商检报关

提供国外CCIC商检代理、国外设备打包、进口海空运、国内港口报关、国内气垫运输等服务。我司熟悉半导体等设备的进口通关事宜，并对海关商检政策有很好的把我，相信选择万享，就是选择顺利通关。

我们主要进?报关的设备种类：
1，?? 8 ?晶圆制造?产线（美国 ccic 检疫-进?海运-国内报检报关）
2，??光刻机／蚀刻机／曝光机（空运-国内安排?垫运输-免查验）
3， 显影机，物理／化学?相沉积设备（ PECVD），扩散炉
4， DISCO／TSL-切割机／研磨机(划?机-减薄机)
5，测试机，扫描电镜，半导体膜厚检测仪（颗粒检测仪）
5， DIE BONDER & WIRE BONDER
6， 松下／富?／三星 SMT ?动化贴?机

三分钟物流方案-------- 上海·苏州 方案中心
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进口咨询： 严凯烽   电话：021-61062629    136-3654-4883

旧设备（二手设备）进口中存在的问题：
1、不知道怎样才能确保旧设备顺利进口？
2、不知道旧设备如何在商检局进行预检备案？
3、您的发货人对于CCIC上门检查倍感迷茫和紧张，担心出货受到影响。
4、在清关中，海关对您货物的海关商品编码归类和价格的质疑。
5、海关、商检查验由于包装问题不能便利的进行查验。

万享能帮到您的： 
1、我们熟悉旧设备商检预检备案流程； 
2、我们熟悉CCIC会做哪些检查；
3、我们熟悉相关货物的商品归类和相关申报价格；
4、我们熟悉查验的目的和要求。

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3、分子束外延系统（MBE，Molecular Beam Epitaxy System）

设备名称：分子束外延系统。

设备功能：分子束外延系统，提供在沉底表面按特定生长薄膜的工艺设备；分子束外延工艺，是一种制备单晶薄膜的技术，它是在适当的衬底与合适的条件下，沿衬底材料晶轴方向逐层生长薄膜。

主要企业（品牌）：

国际：法国Riber公司、美国Veeco公司、芬兰DCA Instruments公司、美国SVTAssociates公司、美国NBM公司、德国Omicron公司、德国MBE-Komponenten公司、英国Oxford Applied Research（OAR）公司。

国内：沈阳中科仪器、北京汇德信科技有限公司、绍兴匡泰仪器设备有限公司、沈阳科友真空技术有限公司。

4、氧化炉（VDF）

设备名称：氧化炉。

设备功能：为半导体材料进行氧化处理，提供要求的氧化氛围，实现半导体预期设计的氧化处理过程，是半导体加工过程的不可缺少的一个环节。

主要企业（品牌）：

国际：英国Thermco公司、德国Centrothermthermal solutions GmbH Co.KG公司。

国内：北京七星华创、青岛福润德、中国电子科技集团*四十八所、青岛旭光仪表设备有限公司、中国电子科技集团*四十五所。

5、低压化学气相淀积系统（LPCVD，Low Pressure Chemical Vapor Deposition System）

设备名称：低压化学气相淀积系统

设备功能：把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入LPCVD设备的反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜。

主要企业（品牌）：

国际：日本日立国际电气公司、

国内：上海驰舰半导体科技有限公司、中国电子科技集团*四十八所、中国电子科技集团*四十五所、北京仪器厂、上海机械厂。

6、等离子体增强化学气相淀积系统（PECVD，Plasma Enhanced CVD）

设备名称：等离子体增强化学气相淀积系统

设备功能：在沉积室利用辉光放电，使其电离后在衬底上进行化学反应，沉积半导体薄膜材料。

主要企业（品牌）：

国际：美国Proto Flex公司、日本Tokki公司、日本岛津公司、美国泛林半导体（Lam Research）公司、荷兰ASM国际公司。

国内：中国电子科技集团*四十五所、北京仪器厂、上海机械厂。

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